ALD рецепторы

VeTek Semiconductor - Қытайдағы ALD Susceptor, CVD SiC жабыны, CVD TAC COATING графит негізінің кәсіби өндірушісі. Vetek Semiconductor компаниясы ALD процесінің жоғары талаптарын қанағаттандыру және субстраттағы ауа ағынын біркелкі бөлу үшін ALD жүйесінің өндірушілерімен бірге SiC қапталған ALD планеталық негіздерін әзірледі және шығарды. Біз сізбен одан әрі ынтымақтастықты асыға күтеміз.

Сұрау жіберу

Өнім Сипаттамасы

Кәсіби маман ретіндеALD қабылдағышҚытайдағы өндіруші, біздің өнімALD қабылдағышТемператураның дәл бақылауы, газдың біркелкі таралуы және тамаша жылу өткізгіштігі және өнімнің басқа сипаттамалары мұны анықтайдыALD қабылдағышатомдық қабаттың тұндыру (ALD) процесінде шешуші рөл атқарады. Маңызды рөл, сіздің кеңесіңізді қарсы алыңыз.

Біркелкі жұқа пленка тұндыру:ALD қабылдағыш атомдық қабаттың тұндыру (ALD) процесі кезінде бүкіл пластинаның бетінде атомдық қабаттардың біркелкі тұндырылуын қамтамасыз етеді. Оның бірегей айналмалы дизайны газдар мен реактивтердің пластинаның бетімен біркелкі байланыста болуына мүмкіндік береді, нәтижесінде пленка қалыңдығы біркелкі болады. Бұл жоғары дәлдіктегі жартылай өткізгіштерді өндіру үшін өте маңызды.

Тұндыру сапасын жақсарту: Температураны бақылауды және газды бөлуді оңтайландыру арқылы ALD Susceptor пленка сапасы мен өнімділігін айтарлықтай жақсартады, ақаулар мен біркелкі еместікті азайтады. Бұл өнімнің сенімділігі мен өнімділігін қамтамасыз ететін жоғары дәлдіктегі жартылай өткізгіштер мен электронды құрылғыларды өндіру үшін өте қолайлы етеді.

Көп вафельді өңдеуді қолдайды: Кейбір ALD Susceptor конструкциялары өндіріс тиімділігін арттыра отырып, бірнеше пластинаны бір уақытта өңдеуге мүмкіндік береді. Бұл әсіресе ауқымды өндірістің қажеттіліктерін қанағаттандыруға қабілетті, өнімділігі жоғары өндірістік орталар үшін өте маңызды.

Әр түрлі өлшемдер мен вафельдердің түрлерін орналастырады:ALD қабылдағыштары әдетте жоғары үйлесімділік үшін әзірленген және әртүрлі өлшемдер мен вафли түрлерін қолдай алады. Бұл оны икемділік пен бейімделуді қамтамасыз ететін әртүрлі өндірістік процестерде тиімді етеді.

Өндіріс шығындарын азайту: Газды тиімді бөлу және біркелкі қыздыру мүмкіндіктерінің арқасында ALD Susceptor тұндыру процесінің тиімділігін арттырады, осылайша материалдық қалдықтар мен өндіріс шығындарын азайтады. Бұл өндіріс тиімділігін арттыруға көмектесіп қана қоймай, өндіріс шығындарын айтарлықтай азайтады.

CVD SiC жабынының негізгі физикалық қасиеттері: