Қытай Қатты кремний карбиді Өндіруші, жеткізуші, зауыт

VeTek Semiconductor қатты кремний карбиді плазмалық ою жабдығындағы маңызды керамикалық компонент болып табылады, сызу жабдығындағы қатты кремний карбидінің (CVD кремний карбиді) бөліктері фокустау сақиналарын, газ душ басын, науаны, шеткі сақиналарды және т.б. кіреді. Реактивтілігі мен өткізгіштігі төмен болғандықтан қатты кремний карбиді (CVD кремний карбиді) хлор және құрамында фтор бар газдарды өңдейді, бұл сақиналар мен басқа компоненттерді фокустайтын плазмалық ою жабдығы үшін тамаша материал.

Мысалы, фокус сақинасы сақина арқылы өтетін плазманы фокустау үшін сақинаға кернеу беру арқылы пластинаның сыртында орналастырылған және пластинкамен тікелей байланыста болатын маңызды бөлік болып табылады, осылайша плазманың біркелкілігін жақсарту үшін пластинаға фокусталады. өңдеу. Дәстүрлі фокус сақинасы кремнийден немесе кварцтан жасалған, жалпы фокус сақинасының материалы ретінде өткізгіш кремний, ол кремний пластинкаларының өткізгіштігіне дерлік жақын, бірақ тапшылығы фторы бар плазмада қышқылға төзімділігі нашар, ою машинасының бөліктері жиі қолданылатын материалдар. белгілі бір уақыт ішінде оның өндірістік тиімділігін айтарлықтай төмендететін күрделі коррозия құбылысы болады.

VeTek Semiconductor жартылай өткізгіш жабдықтарға арналған SiC фокустау сақиналары сияқты жетілдірілген қатты кремний карбиді (CVD кремний карбиді) бөлшектерін ұсынады. Біздің қатты кремний карбиді фокустау сақиналары механикалық беріктік, химиялық төзімділік, жылу өткізгіштік, жоғары температураға төзімділік және иондарды өңдеуге төзімділік бойынша дәстүрлі кремнийден асып түседі.

Біздің SiC фокустау сақиналарының негізгі ерекшеліктеріне мыналар жатады:

Төмендеу жылдамдығы үшін жоғары тығыздық.

Жоғары жолақ аралығымен тамаша оқшаулау.

Жоғары жылу өткізгіштік және жылу кеңеюінің төмен коэффициенті.

Жоғары механикалық әсерге төзімділік пен серпімділік.

Жоғары қаттылық, тозуға төзімділік және коррозияға төзімділік.

Плазмамен жақсартылған химиялық бу тұндыру (PECVD) әдістерін қолдану арқылы жасалған, біздің SiC фокустау сақиналары жартылай өткізгіш өндірісіндегі ою процестерінің өсіп келе жатқан талаптарын қанағаттандырады. Олар плазманың жоғары қуаты мен энергиясына, әсіресе сыйымдылықпен байланыстырылған плазма (CCP) жүйелерінде төтеп беруге арналған.

VeTek Semiconductor компаниясының SiC фокустау сақиналары жартылай өткізгіш құрылғыларды өндіруде ерекше өнімділік пен сенімділікті қамтамасыз етеді. Жоғары сапа мен тиімділік үшін SiC құрамдастарын таңдаңыз.