CVD TAC жабыны

VeTek Semiconductor - Қытайдағы жетекші өндіруші, жаңашыл және CVD TAC Coating көшбасшысы. Көптеген жылдар бойы біз CVD TaC жабынының қақпағы, CVD TaC жабын сақинасы, CVD TaC жабын тасымалдаушысы және т.б. сияқты CVD TAC жабыны өнімдеріне назар аударып келеміз. VeTek Semiconductor реттелетін өнім қызметтері мен қанағаттанарлық өнім бағасын қолдайды және сізді одан әрі күтеді. кеңес беру.

Сұрау жіберу

Өнім Сипаттамасы

CVD TaC жабыны (химиялық бумен тұндыру тантал карбиді жабыны) негізінен тантал карбидінен (TaC) тұратын жабын өнімі болып табылады. TaC жабыны өте жоғары қаттылыққа, тозуға төзімділікке және жоғары температураға төзімділікке ие, бұл жабдықтың негізгі компоненттерін қорғау және технологиялық процестің сенімділігін арттыру үшін тамаша таңдау жасайды. Ол жартылай өткізгіштерді өңдеуде таптырмас материал болып табылады.

CVD TaC жабыны өнімдері әдетте реакциялық камераларда, вафельді тасымалдағыштарда және сызу жабдықтарында қолданылады және оларда келесі негізгі рөлдерді атқарады.

CVD TaC жабыны көбінесе субстраттар, қабырға панельдері және қыздыру элементтері сияқты реакция камераларының ішкі компоненттері үшін қолданылады. Ол өзінің тамаша жоғары температураға төзімділігімен үйлеседі, ол жоғары температураның, коррозиялық газдардың және плазманың эрозиясына тиімді қарсы тұра алады, осылайша жабдықтың қызмет ету мерзімін тиімді ұзартады және процестің тұрақтылығын және өнім өндірісінің тазалығын қамтамасыз етеді.

Сонымен қатар, TaC жабыны бар вафельді тасымалдағыштар (мысалы, кварц қайықтары, арматура және т.б.) сонымен қатар тамаша ыстыққа және химиялық коррозияға төзімділікке ие. Вафельді тасымалдаушы жоғары температурада вафлиді сенімді қолдауды қамтамасыз ете алады, пластинаның ластануын және деформациясын болдырмайды және осылайша жалпы чип шығымдылығын жақсартады.

Сонымен қатар, VeTek Semiconductor компаниясының TaC жабыны плазмалық еріткіштер, химиялық бу тұндыру жүйелері және т.б. сияқты әр түрлі өңдеу және жұқа пленка тұндыру жабдықтарында кеңінен қолданылады. Бұл өңдеу жүйелерінде CVD TAC жабыны жоғары энергиялы иондық бомбалау мен күшті химиялық реакцияларға төтеп бере алады. , осылайша процестің дәлдігі мен қайталануын қамтамасыз етеді.

Сіздің нақты талаптарыңыз қандай болса да, біз сіздің CVD TAC Coating қажеттіліктеріңізге ең жақсы шешімді сәйкестендіреміз және кез келген уақытта сіздің кеңесіңізді күтеміз.

CVD TAC жабынының негізгі физикалық қасиеттері:

TaC жабынының физикалық қасиеттері
Тығыздығы	14,3 (г/см³)
Меншікті эмиссия	0.3
Термиялық кеңею коэффициенті	6,3 10-6/К
Қаттылық (HK)	2000 HK
Қарсылық	1×10-5 Ом*см
Термиялық тұрақтылық	<2500℃
Графит өлшемі өзгереді	-10~-20ум
Қаптау қалыңдығы	≥20um типтік мән (35um±10um)